ค่าเริ่มต้นที่แนะนำ
ระบบ ED มีหลายชนิด (คาโทดิก/แอโนดิก อะคริลิก/ยูรีเทน) — ให้ยึดสเปกผู้ผลิตเป็นหลัก และปรับครั้งละตัวบนชิ้นงานจริง
| พารามิเตอร์ | ช่วงตั้งต้น | หมายเหตุ |
|---|---|---|
| ชนิดระบบ | คาโทดิกใส (Jewelry/Decor) | นิยมสำหรับใส/เงา และทนหมอง |
| ของแข็ง (Solids) | 8–15 %wt | หนาฟิล์มสัมพันธ์กับ solids/แรงดัน/เวลา |
| อุณหภูมิอ่าง | 25–30°C | สูงไป → ฟอง/พิตติ้ง |
| pH | 5.0–7.0 | แล้วแต่ระบบ (ยึดสเปก) |
| Conductivity | 500–1500 µS/cm | ต่ำไป → เคลือบไม่เข้า, สูงไป → ฟอง/คราบ |
| แรงดัน (Ramp) | 30→90–120 V ภายใน 30–90 s | เริ่มเบาแล้วไล่ขึ้น ลดไหม้/ฟอง |
| เวลาแช่ | 30–120 s | นานไปเกิดหนาเกิน/รัน |
| ความหนาฟิล์ม | 5–20 µm | ตามสเปกลูกค้า/การใช้งาน |
| อบคิวรีง | 150–170°C × 20–30 นาที | คุมโปรไฟล์เตา/ไหลลม |
| การล้าง | DI ไหลทวน 2–3 ขั้น + UF Rinse | ลดคราบ/ลด drag-out |
| การกวน/การไหล | อ่อน/สม่ำเสมอ | แรงไปเกิดริ้ว/ฟอง |
ความปลอดภัย: ปฏิบัติตามคู่มือผู้ผลิต ใช้ PPE และระบบระบายอากาศที่เหมาะสม
การเตรียมผิวก่อนเคลือบ
- ล้างไขมัน (ด่าง/อัลตร้าโซนิก) → ล้างน้ำหลายขั้น
- Neutralize/Activate ตามวัสดุชิ้นงาน → ล้าง DI เข้ม
- เลี่ยงซิลิโคน/น้ำมันเข้าบ่อ (ฟิชอายตัวดี) — เช็กล้างมือ/ผ้า/สารเงา
- พักระบายน้ำ (drain) ให้พอ ก่อนเข้าบ่อ ED
- หลังเคลือบ ล้าง DI + UF Rinse → เป่าไล่น้ำ → เข้าเตาโดยเร็ว
หน้าต่างกระบวนการ
| ตัวแปร | ต่ำ | กลาง | สูง | สังเกตการณ์ |
|---|---|---|---|---|
| แรงดัน | ต่ำ | Ramp กลาง | สูง | ต่ำ → ฟิล์มบาง/ไม่เข้า; สูง → ฟอง/ไหม้/รัน |
| เวลา | สั้น | เหมาะสม | ยาว | สั้น → บาง/รูพรุน; ยาว → หนาเกิน/รัน |
| อุณหภูมิ | ต่ำ | 25–30°C | สูง | สูง → ฟอง/พิตติ้ง/หม่น |
| Solids | ต่ำ | 8–15% | สูง | ต่ำ → บาง; สูง → หนา/รัน/หม่น |
| Conductivity | ต่ำ | 500–1500 | สูง | ต่ำ → เคลือบไม่ก่อฟิล์ม; สูง → ฟอง/คราบ |
| pH | ต่ำ | 5–7 | สูง | ผิดช่วง → สี/เงาเพี้ยน การไหลตัวไม่ดี |
| การกวน/การไหล | ไม่มี | อ่อน | แรง | แรง → ริ้ว/ฟอง; อ่อน → ไม่เสมอ |
| อบ | อ่อน | 150–170°C×20–30′ | แรง | อ่อน → ยึดเกาะไม่ดี; แรง → เหลือง/แตกลาย |
การจัดวาง
แขวนแนวที่ระบายก๊าซได้ดี หลีกเลี่ยงโพรงอากาศ ปรับมุมให้ของเหลวไหลออก ลดรัน/คราบน้ำ
คุมระยะขั้ว–ชิ้นงานให้สม่ำเสมอ ใช้แผ่นบัง (shield) ลด HCD บริเวณขอบ/สัน
ใช้ถุงแอโนด/ระบบแยก anolyte สำหรับคาโทดิก ED และคุมการไหลเวียน anolyte อย่างสม่ำเสมอ
รันแรงดันแบบ ramp (เช่น 0–30 V → 60–90 V) เพื่อให้ไล่ฟิล์มขึ้นอย่างนุ่ม
การดูแลบ่อและคุณภาพ
- ติดตาม Solids/pH/Conductivity/อุณหภูมิ และเติมตาม drag-out/UF balance
- ระบบ UF: รักษาอัตรา permeate/retentate ตามสเปก ช่วยคุมความสะอาดและลดฟอง
- Anolyte (คาโทดิก ED): คุมค่ากรด/การไหล เปลี่ยนตามรอบ
- คัดแยกน้ำมัน/ซิลิโคน: ใช้ถังดักน้ำมัน, หลีกเลี่ยงน้ำยา/ผ้าที่มีซิลิโคน, ใช้ defoamer แบบ non-silicone
- กรองต่อเนื่อง + คาร์บอนทรีตเมนต์ตามรอบเพื่อกำจัดสารอินทรีย์ที่เสื่อม
- QC: ความหนา (eddy current/น้ำหนัก), เงา/หมอก (gloss/haze), การยึดเกาะ (cross-hatch/tape), ทนเหงื่อ/สารเคมี, การทนเหลืองจากเตา
ตารางปัญหาพบเจอบ่อย
| อาการ | สาเหตุหลัก | แนวทางแก้ |
|---|---|---|
| ฟิชอาย/คราเตอร์ | ซิลิโคน/น้ำมันปน, ล้างไม่พอ | คัดแยกซิลิโคน, เพิ่มล้าง DI, คาร์บอนทรีตเมนต์, ใช้ defoamer non-silicone |
| พองหลังอบ (blister) | ก๊าซค้าง/ความชื้น, อบอ่อน, ปนเปื้อน | เป่าไล่น้ำก่อนอบ, เพิ่มเวลา/อุณหภูมิอบตามสเปก, ปรับ ramp |
| ฟอง/พิตติ้ง | อุณหภูมิสูง, กวนแรง, Conductivity สูง, ปนเปื้อน | ลดอุณหภูมิ/การกวน, ปรับค่า cond., กรอง/UF/คาร์บอน |
| รัน/หนาไหล | แรงดันสูง/เวลายาว, ฟิล์มหนาเกิน, Drain ไม่พอ | ลดแรงดัน/เวลาหรือทำ ramp, เพิ่มเวลาพักไหล, ปรับของแข็ง |
| เงาไม่ใส/หมอก | ของแข็งสูง, ปนเปื้อนอินทรีย์, อุณหภูมิสูง | ปรับ solids, คาร์บอนทรีตเมนต์, ลดอุณหภูมิ, เพิ่ม UF |
| ยึดเกาะไม่ดี | เตรียมผิวไม่สะอาด, อบอ่อน, pH/cond. นอกช่วง | รีทำความสะอาด–Activate, จูน pH/cond., ปรับโปรไฟล์อบ |
| เหลือง/สีเพี้ยน | อบแรงเกิน, ฟิล์มหนาเกิน, pH/สารเติมเพี้ยน | ลดอุณหภูมิ/เวลอบ, จูน pH/เติมสารตามคู่มือ |
| ไม่เข้าโพรง/Throw power ต่ำ | แรงดันเริ่มต่ำเกิน/โปรไฟล์ ramp ไม่เหมาะ, cond. ต่ำ | ปรับ ramp/แรงดันเฉลี่ย, เพิ่ม cond. ภายในช่วง, ปรับจัดวาง/ระยะขั้ว |
ลิงก์ที่เกี่ยวข้องกับบทความนี้
หมวด Protective / เคลือบปกป้อง
หมวด Pretreatment สำหรับเตรียมผิว